Исследование плазмы

Особенности развития тока в начальной стадии пробоя в эптроне

И. В. Швейгерт, П. А. Бохан, П. П. Гугин, Д. Э. Закревский, В. А. Ким, М. А. Лаврухин

Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск

Аннотация: Проведены экспериментальные и расчетно-теоретические исследования начальной стадии пробоя в эптроне – коммутационном устройстве с разрядной структурой на основе капиллярного разряда с плазменным катодом. Показано, что вследствие различных механизмов создания плазмы в капилляре и плазменном катоде разряд в общем случае развивается в две стадии, что затрудняет получение субнаносекундных времен коммутации. Искусственное повышение концентрации плазмы в плазменном катоде за счет увеличения частоты следования импульсов, энергии импульса вспомогательного разряда сближает обе стадии, что позволяет получать субнаносекундные времена коммутации со скоростью нарастания тока до $700$ А/нс при напряжении до $25$ кВ и частоте следования импульсов до $100$ кГц.

УДК: 537.525: 533.9.07

Поступила в редакцию: 27.06.2025
Исправленный вариант: 03.08.2025
Принята в печать: 16.09.2025

DOI: 10.7868/S3034610X25060032