Теплофизические свойства веществ

Молекулярный состав пара при лазерно-индуцированном испарении системы $\rm HfC$–$\rm TaC$ до $4550$ К

А. М. Фролов^a, Т. В. Бгашева^a, С. В. Петухов^a, М. В. Тарасова^ab, М. А. Шейндлин<sup>a

a</sup> Объединенный институт высоких температур РАН, г. Москва
^b Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС", г. Москва

Аннотация: В работе представлены результаты исследования молекулярного состава пара над образцами карбидной системы $\rm HfC$–$\rm TaC$ при температурах более $4000$ К. Для исследования были синтезированы плотные однофазные образцы карбидной системы $\rm HfC$–$\rm TaC$ разного стехиометрического состава, содержащие $48{,}~63$ и $79$ мол. $\%~\rm TaC$. Лазерно-индуцированное испарение этих образцов изучено с использованием времяпролетного масс-анализатора. Впервые идентифицированы молекулярные формы пара при испарении образцов карбидной системы $\rm HfC$–$\rm TaC$. Для всех основных молекулярных форм пара измерены температурные зависимости их относительных парциальных давлений при температурах до $4550$ К. Определены соотношения давлений различных молекулярных форм пара системы $\rm HfC$–$\rm TaC$ и влияние на них температуры и мольной доли $\rm TaC$ в образцах. Показано, что скорость испарения образцов системы $\rm HfC$–$\rm TaC$ существенно ниже скорости сублимации графита в диапазоне температур $4200$–$4300$ К.

УДК: 536.423.15

Поступила в редакцию: 14.03.2025
Исправленный вариант: 30.04.2025
Принята в печать: 13.05.2025

DOI: 10.7868/S3034610X25030079