Аннотация:
Проанализирована модель AlGaAs/GaAs-лазера с многослойными интерференционными барьерами, используемыми для отражения электронных волн с целью увеличения ограничения носителей. Оптимизирована конструкция лазерной двойной гетероструктуры для спектрального диапазона 780 — 808 нм, имеющей электронные сверхрешеточные барьеры (ЭСБ), с раздельным ограничением электронов и фотонов. Методом эпитаксии из металлоорганических соединений при низком давлении изготовлены двусторонние гетероструктуры с раздельным ограничением на основе AlGaAs/GaAs, содержащие ЭСБ трех типов и обычные лазеры. На основе указанных гетероструктур изготовлены полосковые лазеры с диэлектрической изоляцией, имеющие ширину полоскового контакта 100 и 200 мкм. Для лазеров с ЭСБ получена минимальная плотность порогового тока 0.3 кА/см2 и температурная константа Т0 = 220 К при толщинах активного слоя 40нм и длине резонатора 0.4 — 0.5 мм. Для лазеров той же геометрии, не имеющих ЭСБ, минимальная плотность порогового тока составила 0.42 кА/см2, а Т0 была равна 160 К.