RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2025, том 55, номер 4, страницы 234–241 (Mi qe18557)

К 45-летию Самарского филиала Физического института им. П.Н. Лебедева РАН

Влияние кристаллографической текстуры на формирование остаточных напряжений в алюминиевых сплавах при лазерной ударной обработке без покрытия

И. А. Бакулин, С. И. Кузнецов, А. С. Панин, Е. Ю. Тарасова

Самарский филиал Физического института им. П. Н. Лебедева РАН, Россия, 443011 Самара

Аннотация: Рассмотрено влияние лазерной ударной обработки (ЛУО) без покрытия импульсами малой энергии (0.3 Дж) на структуру и остаточные напряжения в деформируемом алюминиевом сплаве АМг6 с различной кристаллографической текстурой до и после рекристаллизационного отжига. Обнаружен эффект значительного влияния исходной текстуры обрабатываемого сплава на профиль и глубину остаточных напряжений после ЛУО. Установлено, что глубина и профиль сжимающих остаточных напряжений (СОН) в алюминиевом сплаве зависят от ориентации кристаллографических плоскостей относительно действующей силы. Наименьшая глубина и величина сжимающих остаточных напряжений получена при расположении плоскости скольжения перпендикулярно действующей силе. При благоприятной кристаллографической текстуре получено увеличение глубины СОН в 1.5 – 3 раза в зависимости от плотности мощности излучения и диаметра лазерного пятна. Можно утверждать, что кристаллографическая текстура обрабатываемого сплава является одним из основных факторов, влияющих на результат лазерной ударной обработки.

Ключевые слова: лазерная ударная обработка, кристаллографическая текстура, остаточные напряжения, дислокации, алюминиевые сплавы.

Поступила в редакцию: 29.04.2025
Исправленный вариант: 09.06.2025
Принята в печать: 20.06.2025


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2025, 52:suppl. 6, S636–S645


© МИАН, 2026