RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2026, том 52, выпуск 6, страницы 7–10 (Mi pjtf9749)

In situ исследование кинетики кристаллизации покрытий Al$_2$O$_3$, осажденных из изопропилата алюминия, при термическом отжиге

А. С. Митулинский, А. В. Гайдайчук, С. П. Зенкин, А. В. Пирожков, С. А. Линник

Национальный исследовательский Томский политехнический университет, Томск, Россия

Аннотация: Оксид алюминия существует в нескольких полиморфных модификациях, каждая из которых определяет набор свойств, важных для защитных, термобарьерных и диэлектрических покрытий. Исследована температурная эволюция фазового состава и микроструктуры CVD-покрытий Al$_2$O$_3$, осажденных из изопропилата алюминия, при отжиге до 1200$^\circ$C, и проведено сопоставление данных рентгенофазового анализа и электронной микроскопии для выяснения механизмов кристаллизации и формирования различных полиморфных модификаций Al$_2$O$_3$.

Ключевые слова: химическое газофазное осаждение, тонкие пленки, оксид алюминия, корунд, термостойкость.

Поступила в редакцию: 19.09.2025
Исправленный вариант: 29.10.2025
Принята в печать: 18.11.2025

DOI: 10.61011/PJTF.2026.06.62455.20503



© МИАН, 2026