RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2010, том 36, выпуск 19, страницы 44–51 (Mi pjtf9635)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Оценки влияния радикалов C$^-_2$, C$^+_3$ и нейтральных кластеров на процесс образования фуллеренов

М. М. Касумов

Институт общей и неорганической химии им. В. И. Вернадского НАН Украины, г. Киев

Аннотация: Изучался масс-спектр продуктов электродугового разряда с электродами из графита в зависимости от величины потока гелия. С увеличением потока пики фуллеренов C$^\pm_{60}$, C $^\pm_{70}$, C$^\pm_{84}$, C$^\pm_{90}$ увеличиваются, но уменьшаются пики радикальных кластеров C$^-_2$, C$^+_3$, но общая сумма величин спада пиков радикалов составляет лишь 21% от суммы увеличения пиков фуллеренов. Из этого следует, что вклад в формирование фуллеренов от впервые учтенных нейтральных кластеров значительно превышает вклад от малых радикалов.

Поступила в редакцию: 27.05.2010


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2010, 36:10, 895–898

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026