Эта публикация цитируется в 1 статье

Стабильность электрических характеристик пленок Au на поверхности Si(111)5.55 $\times$ 5.55–Cu при экспозиции в кислороде

Д. А. Цуканов^ab, Л. В. Бондаренко^ab, Е. А. Борисенко<sup>ab

a</sup> Институт автоматики и процессов управления ДВО РАН, г. Владивосток
^b Дальневосточный государственный университет, г. Владивосток

Аннотация: С помощью методов дифракции медленных электронов, электронной оже-спектроскопии и четырехзондового метода измерения электрической проводимости in situ изучена зависимость поверхностной проводимости слоистой структуры Au/Su(111)5.55 $\times$ 5.55–Cu от толщины пленки Au и величины экспозиции в кислороде. Образцы Au/Si(111)5.55 $\times$ 5.55–Cu формировали путем напыления золота (в количестве 1–5 монослоев) при комнатной температуре на предварительно подготовленную поверхность Si(111)5.55 $\times$ 5.55–Cu, после чего образцы экспонировали в кислороде (с экспозицией 0–14000 L) также при комнатной температуре. Полученные результаты показали, что экспозиция исходной поверхноcти Si(111)5.55 $\times$ 5.55–Cu, а также образцов с покрытием Au в диапазоне 1–3 монослоев в кислороде приводит к значительному падению проводимости. При этом проводимость образцов с покрытием Au более 3 монослоев остается практически неизменной, что связано с тем, что начиная с 3 монослоев на поверхности Si(111)5.55 $\times$ 5.55–Cu формируется сплошная пленка Au.

Поступила в редакцию: 27.04.2010

 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2010, 36:10, 875–877

Реферативные базы данных:

•