Аннотация:
Исследованы особенности формирования пленок YBa$_2$Cu$_3$O$_{7-\delta}$ на обеих сторонах подложки при их поочередном нанесении методом магнетронного напыления в геометрии on-axis. При напылении пленки на первую сторону подложки, на ее второй стороне формируется тонкая пленка, которая может служить качественным подслоем при получении пленки заданной толщины на второй стороне подложки. Показано, что контроль свойств пленки, сформировавшейся на обратной стороне подложки в процессе напыления на лицевую сторону, может служить тестом на оптимизацию технологических параметров роста.