Аннотация:
Предложен новый механизм формирования тонкого приповерхностного наноструктурного слоя зоны легирования при обработке с оплавлением поверхности металлов импульсной плазменной струей, сформированной из продуктов электрического взрыва проводников. Механизм основан на возникновении неустойчивости Кельвина–Гельмгольца поверхности раздела плазма-расплав. Получено дисперсионное уравнение для задачи Кельвина–Гельмгольца с учетом вязких и капиллярных напряжений в расплаве. Проведен анализ зависимости инкремента от длины волны возмущений поверхности с максимумом в нанометровом диапазоне при относительной скорости плазмы и расплава в диапазоне 100–1000 m/s, достигаемой в условиях обработки.