RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2010, том 36, выпуск 14, страницы 41–48 (Mi pjtf9564)

Эта публикация цитируется в 7 статьях

Образование наноразмерных структур в металлах при воздействии импульсных плазменных струй электрического взрыва

В. Д. Сарычев, Е. С. Ващук, Е. А. Будовских, В. Е. Громов

Сибирский государственный индустриальный университет, г. Новокузнецк

Аннотация: Предложен новый механизм формирования тонкого приповерхностного наноструктурного слоя зоны легирования при обработке с оплавлением поверхности металлов импульсной плазменной струей, сформированной из продуктов электрического взрыва проводников. Механизм основан на возникновении неустойчивости Кельвина–Гельмгольца поверхности раздела плазма-расплав. Получено дисперсионное уравнение для задачи Кельвина–Гельмгольца с учетом вязких и капиллярных напряжений в расплаве. Проведен анализ зависимости инкремента от длины волны возмущений поверхности с максимумом в нанометровом диапазоне при относительной скорости плазмы и расплава в диапазоне 100–1000 m/s, достигаемой в условиях обработки.

Поступила в редакцию: 02.02.2010


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2010, 36:7, 656–659

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026