Ю. В. Коробкин, С. П. Горбунов, В. В. Мяэкиви, В. Л. Паперный, “Источник широкоапертурного плазменного потока на основе низковольтного искрового разряда с сегнетоэлектрическим электродом”, Письма в ЖТФ, 2010, том 36, выпуск 10,страницы 9

Источник широкоапертурного плазменного потока на основе низковольтного искрового разряда с сегнетоэлектрическим электродом

Ю. В. Коробкин^ab, С. П. Горбунов^ab, В. В. Мяэкиви^ab, В. Л. Паперный^ab

^a Московский государственный институт радиотехники, электроники и автоматики (технический университет)
^b Иркутский государственный университет

Аннотация: Экспериментально исследован низковольтный вакуумный искровой разряд (напряжение накопителя 75–600 V) с катодом в виде металлической сетки, расположенной на поверхности электрода из поляризованной сегнетокерамики, с помощью которого инициировался разряд. Обнаружено, что инициация разряда происходила при подаче на тыльную поверхность сегнетокерамики управляющего импульса амплитудой 1 kV и длительностью 100 ns только отрицательной полярности, независимо от направления вектора поляризации керамики. Оптические измерения показали, что площадь эмитирующей поверхности катода растет приблизительно пропорционально увеличению разрядного напряжения. Согласно коллекторным измерениям, ионы плазменного потока имеют медленную и быструю компоненты, причем скорости обеих компонент остаются практически постоянными при изменении амплитуды разрядного тока в широком диапазоне величин.

Поступила в редакцию: 21.12.2009