Г. И. Димов, И. С. Емелёв, “Распределение потенциала плазмы в тандемном поверхностно-плазменном источнике отрицательных ионов”, Письма в ЖТФ, 2010, том 36, выпуск 6,страницы 15

Распределение потенциала плазмы в тандемном поверхностно-плазменном источнике отрицательных ионов

Г. И. Димов^ab, И. С. Емелёв^ab

^a Институт ядерной физики им. Г. И. Будкера СО РАН, г. Новосибирск
^b Новосибирский государственный университет

Аннотация: Проведены экспериментальное исследование распределения потенциала водородной плазмы и измерения ее плотности и электронной температуры в тандеме кольцевой мультипольной магнитной ловушки с конвертором положительных ионов в отрицательные. Подтверждено, что потенциал плазмы в кольцевой ловушке ниже потенциала стенок камеры. Установлено, что в рабочем диапазоне потенциал плазмы в конверторе практически не зависит от его потенциала.

Поступила в редакцию: 27.10.2009