Обнаружение квазипериодических граней $\{11n\}$, $n$ = 7–11 в образцах с Ge/Si квантовыми точками с помощью рентгеновской рефлектометрии скользящего падения
Аннотация:
С помощью высокоразрешающей рентгеновской рефлектометрии скользящего падения получены экспериментальные и теоретические данные интенсивности зеркального и диффузного отражения самоорганизующихся структур, выращенных методом молекулярно-пучковой эпитаксии с однослойными незарощенными и многослойными зарощенными Ge/Si квантовыми точками (КТ). Из положения пиков диффузного рассеяния в прямом пространстве с помощью методики, ранее примененной для исследования In(Ga)As/GaAs KT, были измерены с точностью $\pm$ 0.1$^\circ$ углы наклона квазипериодических граней. Обнаруженные в образцах с неупорядоченными Ge/Si KT грани $\{11n\}$, $n$ = 7–11, характерные для ямок роста упорядоченных КТ, свидетельствуют об общности моделей образования КТ.