Эта публикация цитируется в 3 статьях

Фоторазложение гексахлорбифенила излучением KrCl (222 nm) эксилампы барьерного разряда

А. А. Пикулев, В. М. Цветков

Российский федеральный ядерный центр — Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики, г. Саров Нижегородской обл.

Аннотация: Проведено исследование дехлорирования 2, 2', 4, 4', 5, 5'-гексахлорбифенила (ПХБ N 153) при воздействии УФ-излучения KrCl* (222 nm) эксилампы барьерного разряда. Был исследован фотолиз трех образцов: N 1 – раствор ПХБ N 153 в гексане с концентрацией 10 $\mu$g/ml; N 2 – то же с концентрацией 1 $\mu$g/ml; N 3 – пленка ПХБ N 153 на кварцевой пластинке. Степень разложения ПХБ N 153 определялась по спектрам пропускания образцов в диапазоне 185–350 nm. Анализ спектров поглощения свидетельствует, что в первую очередь происходит отделение атомов хлора в ортоположениях (2, 2'). При интенсивности УФ-излучения на поверхности образцов 3 mW/cm$^2$ остаточное содержание ПХБ N 153 составляет: для образца N 1 – менее 2% после 60 min облучения; N 2 – $<$ 3% после 25 min облучения; N 3 – $<$ 20% после 60 min облучения.

Поступила в редакцию: 29.05.2009

 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2010, 36:1, 43–46

Реферативные базы данных:

•