RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2011, том 37, выпуск 13, страницы 62–69 (Mi pjtf9211)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Формирование нанокристаллов кремния в пленке SiN$_x$ на лавсане с применением фемтосекундных импульсных обработок

Т. Т. Корчагинаabcd, В. А. Володинabcd, А. А. Поповabcd, К. С. Хорьковabcd, М. Н. Геркеabcd

a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
b Новосибирский государственный университет
c Ярославский филиал Федерального государственного бюджетного учреждения науки Физико-технологического института РАН
d Владимирский государственный университет

Аннотация: Исследовано формирование нанокластеров Si в пленке SiN$_x$ с избыточным содержанием кремния под воздействием фемтосекундных лазерных импульсов. Пленка была выращена при температуре 100$^\circ$C с применением плазмо-химического осаждения на подложке из лавсана. Для импульсной кристаллизации использовался титан-сапфировый лазер с длиной волны излучения 800 nm и длительностью импульса 50 fs. По данным комбинационного рассеяния света получено, что импульсные отжиги стимулировали собирание избыточного кремния в нанокластеры и их кристаллизацию. Развитый подход может быть использован для формирования полупроводниковых нанокристаллов в диэлектрических пленках на подложках из пластика.

Поступила в редакцию: 05.03.2011


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2011, 37:7, 622–625

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026