RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2011, том 37, выпуск 9, страницы 105–110 (Mi pjtf9162)

Создание профильного распределения концентрации рекомбинационных центров при электронном облучении кремния

И. В. Греховab, Л. С. Костинаab, В. В. Козловскийab, В. Н. Ломасовab, А. В. Рожковab

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский государственный политехнический университет

Аннотация: Показана возможность создания профильного распределения концентрации рекомбинационных центров в высоковольтных кремниевых $p^+Nn^+$-диодах путем обычного электронного облучения в определенном диапазоне энергий. Приводятся результаты исследования основных статических и динамических характеристик.

Поступила в редакцию: 13.12.2010


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2011, 37:5, 442–444

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026