RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2012, том 38, выпуск 19, страницы 90–94 (Mi pjtf8975)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Отжиг радиационно-компенсированного карбида кремния

А. А. Лебедевab, Е. В. Богдановаab, М. В. Григорьеваab, С. П. Лебедевab, В. В. Козловскийab

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский государственный политехнический университет

Аннотация: Было проведено исследование процессов восстановления проводимости радиационно-компенсированных эпитаксиальных слоев различных политипов карбида кремния $p$-типа проводимости. Показано, что созданная облучением компенсация SiC сохраняется при отжигах $\le$ 1000$^\circ$C. Практически полное восстановление проводимости происходит при $T\ge$ 1200$^\circ$C. Данный характер отжига радиационной компенсации не зависит от политипа карбида кремния и исходного уровня легирования эпитаксиального слоя. Определенные температуры полного отжига значительно превосходят рабочие температуры приборов SiC.

Поступила в редакцию: 03.05.2012


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2012, 38:10, 910–912

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026