Аннотация:
Было проведено исследование процессов восстановления проводимости радиационно-компенсированных эпитаксиальных слоев различных политипов карбида кремния $p$-типа проводимости. Показано, что созданная облучением компенсация SiC сохраняется при отжигах $\le$ 1000$^\circ$C. Практически полное восстановление проводимости происходит при $T\ge$ 1200$^\circ$C. Данный характер отжига радиационной компенсации не зависит от политипа карбида кремния и исходного уровня легирования эпитаксиального слоя. Определенные температуры полного отжига значительно превосходят рабочие температуры приборов SiC.