Аннотация:
Проведено исследование влияния обработок в плазме различных газов и последующего осаждения алмазоподобных углеродных пленок (АУП) на пропускание кристаллов полуизолирующего GaAs в ИК-области спектра. Показано, что осаждение АУП толщиной 1–1.5 $\mu$m позволяет увеличить пропускание GaAs в диапазоне 4–15 $\mu$m, причем предварительная обработка в плазме H$^+$ или Ar$^+$ увеличивает оптическое пропускание структуры АУП-GaAs. Предложен механизм, объясняющий влияние плазменной обработки на оптическое пропускание полуизолирующего GaAs в ИК-области спектра.