Аннотация:
Приведены результаты исследования кристаллических фаз в пленках оксида вольфрама после ступенчатого отжига в вакууме и на воздухе в диапазоне температур 500–750$^\circ$C. Пленки были осаждены на подложку из кварцевого стекла методом реактивного магнетронного распыления на постоянном токе. Установлено, что термохромизм в пленках обусловлен дефектной по киcлороду фазой WO$_{3-x}$, относящейся к гексагональной сингонии, которая интенсивно развивается при повышении температуры отжига от 650 до 750$^\circ$C.