RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2012, том 38, выпуск 4, страницы 53–59 (Mi pjtf8775)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Влияние отжига во внешнем магнитном поле на микроструктуру и магнитные свойства пленок FePt

А. С. Камзинa, F. L. Weib, B. Mаc, В. Ганеевd, Л. Д. Зариповаd

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Key Laboratory for Magnetism and Magnetic Materials of the Ministry of Education, Research Institute of Magnetic Materials, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China
c State Key Laboratory for Advanced Photonic Materials and Devices, Department of Optical Science and Engineering, Fudan University, Shanghai 200433, China
d Казанский (Приволжский) федеральный университет

Аннотация: Исследовано влияние отжига во внешнем магнитном поле, приложенном перпендикулярно плоскости пленок, на микроструктуру и магнитные свойства многослойной структуры (MC) Si/Fe(2nm)/Fe$_{50}$Pt$_{50}$(20 nm)/Pt(2 nm), полученной методом радиочастотного магнетронного распыления. Установлено, что отжиг во внешнем магнитном поле приводит к образованию преимущественной текстуры (001) в МС FePt фазы $L1_0$. Таким образом, разработан метод получения МС на основе пленок FePt, требуемых для “перпендикулярной” магнитной записи.

Поступила в редакцию: 04.10.2011


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2012, 38:2, 181–184

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026