RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2013, том 39, выпуск 24, страницы 45–54 (Mi pjtf8669)

Эта публикация цитируется в 8 статьях

Послойный молекулярный анализ фуллерен-содержащих структур методом время-пролетной вторично-ионной масс-спектрометрии

М. Н. Дроздовab, Ю. Н. Дроздовab, Г. Л. Пахомовab, В. В. Травкинab, П. А. Юнинab, В. Ф. Разумовab

a Институт физики микроструктур РАН, г. Нижний Новгород
b Федеральный исследовательский центр проблем химической физики и медицинской химии РАН, г. Черноголовка Московской обл.

Аннотация: Исследуется новый вариант послойного анализа тонкопленочных фуллерен-содержащих органических структур методом время-пролетной вторично-ионной масс-спектрометрии на установке TOF.SIMS-5. Обнаружена и исследована зависимость интенсивности выхода молекулярных ионов C$_{60}$ от энергии распыляющих ионов Cs. Показано, что при энергии ниже 1 keV наблюдается высокая интенсивность линии молекулярных ионов C$_{60}$, позволяющая проводить не только элементный, но и молекулярный послойный анализ состава многокомпонентных (многослойных) тонкопленочных структур. Демонстрируются перспективы использования послойного молекулярного анализа для получения новой, более детальной информации о реальном молекулярном составе в функциональных органических устройствах.

Поступила в редакцию: 16.07.2013


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2013, 39:12, 1097–1100

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026