RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2013, том 39, выпуск 23, страницы 72–79 (Mi pjtf8660)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Особенности пиннинга уровня Ферми на границе раздела Al$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As с анодным оксидом и стабилизированным диоксидом циркония

С. В. Тиховab, О. Н. Горшковab, И. Н. Антоновab, А. П. Касаткинab, М. Н. Коряжкинаab

a Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
b Научно-исследовательский физико-технический институт ННГУ, Нижний Новгород

Аннотация: В структурах металл–оксид–полупроводник на основе пленок Al$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As, полученных методом эпитаксии с использованием металлоорганических соединений, наблюдался пиннинг уровня Ферми на границе раздела Al$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As/оксид на расстоянии 1.1 eV от потолка зоны проводимости Al$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As. В этих структурах обнаружено явление долговременной памяти, которое обусловлено поступлением электронов из Al$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As в анодный окисел и их захватом там глубокими ловушками. Наблюдалось обратимое изменение состояний структур, связанных с этим эффектом памяти, под действием электрического поля или света.

Поступила в редакцию: 20.06.2013


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2013, 39:12, 1064–1067

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026