Аннотация:
Методом полевой ионной микроскопии исследована атомная структура поверхности и приповерхностных областей совершенного бездислокационного вольфрама, облученного ионами гелия с энергией ниже порога смещения. Обнаружен выход из объема собственных междоузельных атомов, образующихся в результате процессов вытеснения атомов вольфрама из узловых решеточных позиций атомами внедренного гелия. Показано, что большие концентрации гелия и силы зеркального изображения оказывают существенное влияние на развитие этих процессов. В приповерхностном слое облученного металла обнаружены обедненные зоны, состоящие из гелий-вакансионных комплексов.