RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2013, том 39, выпуск 21, страницы 52–59 (Mi pjtf8633)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Образование междоузельных атомов в поверхностных слоях вольфрама при имплантации гелия

О. В. Дудка, В. А. Ксенофонтов, А. А. Мазилов, Е. В. Саданов

Национальный научный центр "Харьковский физико-технический институт"

Аннотация: Методом полевой ионной микроскопии исследована атомная структура поверхности и приповерхностных областей совершенного бездислокационного вольфрама, облученного ионами гелия с энергией ниже порога смещения. Обнаружен выход из объема собственных междоузельных атомов, образующихся в результате процессов вытеснения атомов вольфрама из узловых решеточных позиций атомами внедренного гелия. Показано, что большие концентрации гелия и силы зеркального изображения оказывают существенное влияние на развитие этих процессов. В приповерхностном слое облученного металла обнаружены обедненные зоны, состоящие из гелий-вакансионных комплексов.

Поступила в редакцию: 07.06.2013


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2013, 39:11, 960–963

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026