RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2013, том 39, выпуск 21, страницы 10–17 (Mi pjtf8627)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Формирование текстуры (200) и (110) в пленках железа, полученных магнетронным распылением

А. С. Джумалиев, Ю. В. Никулин, Ю. А. Филимонов

Саратовский филиал Института радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова РАН

Аннотация: Исследовано влияние давления рабочего газа на текстуру пленок железа, полученных на подложках Si(100)/SiO$_2$ магнетронным распылением при комнатной температуре. Показано, что изменение давления рабочего газа от 1.33 до 0.09 Pa приводит к смене текстуры пленок от (110) к (200), что также сопровождается переходом от столбчатой микроструктуры пленок к квазиоднородной. Показано, что шероховатость поверхности пленки зависит от давления рабочего газа немонотонно и имеет максимум в интервале давлений, отвечающих сосуществованию в пленке фаз с текстурами (110) и (200).

Поступила в редакцию: 23.04.2013


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2013, 39:11, 938–941

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026