Аннотация:
Исследовано влияние давления рабочего газа на текстуру пленок железа, полученных на подложках Si(100)/SiO$_2$ магнетронным распылением при комнатной температуре. Показано, что изменение давления рабочего газа от 1.33 до 0.09 Pa приводит к смене текстуры пленок от (110) к (200), что также сопровождается переходом от столбчатой микроструктуры пленок к квазиоднородной. Показано, что шероховатость поверхности пленки зависит от давления рабочего газа немонотонно и имеет максимум в интервале давлений, отвечающих сосуществованию в пленке фаз с текстурами (110) и (200).