Аннотация:
Методом рентгенофазового анализа и вторично-ионной масс-спектрометрии исследованы мишени высокотемпературного сверхпроводника YBa$_2$Cu$_3$O$_{7-\delta}$, подвергшиеся ионно-плазменному распылению в магнетронной напылительной системе. Установлено, что в процессе магнетронного распыления на постоянном токе происходят диффузионное обеднение по кислороду и структурная перестройка поверхности мишени, вызываемые радиационным и тепловым воздействием бомбардирующих ионов. Предполагается, что такие изменения в мишени являются причиной снижения скорости роста YBa$_2$Cu$_3$O$_{7-\delta}$ пленок.