Эта публикация цитируется в 18 статьях

О механизме формирования инкапсулированных наночастиц при импульсном лазерном осаждении тонкопленочных покрытий WSe$_x$

В. Ю. Фоминский^ab, С. Н. Григорьев^ab, А. Г. Гнедовец^ab, Р. И. Романов<sup>ab

a</sup> Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ", г. Москва
^b Московский государственный технологический университет "Станкин"

Аннотация: Исследованы факторы, влияющие на образование наночастиц со структурой сферического металлического W ядра в оболочке из WSe$_2$ при осаждении тонких пленок диселенида вольфрама в варьируемых условиях (давление буферного газа Ar, температура подложки). Установлено, что металлическое ядро формируется на стадии абляции синтезированной мишени WSe$_2$, а оболочка нарастает в результате процессов конденсации, миграции и перераспределения атомов при осаждении лазерно-инициированного атомарного потока на поверхности растущей пленки. Торможение атомарного потока буферным газом в диапазоне давлений 2–10 Pa не обеспечивало активирования процессов конденсации оболочки на ядре в газовой фазе. Повышение температуры подложки от комнатной до 250$^\circ$C инициировало трансформацию аморфной структуры оболочки в ламинарную.

Поступила в редакцию: 15.11.2012

 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2013, 39:3, 312–315

Реферативные базы данных:

•