Эта публикация цитируется в 2 статьях

Резонансное рассеяние на слое закритической плазмы конечных размеров

А. П. Анютин^a, А. Д. Шатров<sup>b

a</sup> Российский новый университет, Москва
^b Фрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова РАН

Аннотация: Численно исследована двумерная задача возбуждения цилиндрической волной слоя закритической плазмы конечного размера. Обнаружено, что частотная зависимость возбужденного поля при значениях параметров слоя, близких к значениям, приводящим в слое неограниченных размеров к трехкратному вырождению поверхностной волны, имеет резонансный характер. Рассчитаны ближние и дальние поля на резонансной частоте.

Поступила в редакцию: 23.10.2013

 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2013, 39:3, 287–289

Реферативные базы данных:

•