RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2013, том 39, выпуск 2, страницы 68–75 (Mi pjtf8391)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Влияние энергии ионов на морфологию поверхности пленки платины при высокочастотном ионно-плазменном распылении

И. И. Амиров, В. В. Наумов, М. О. Изюмов, Р. С. Селюков

Ярославский филиал Физико-технологического института РАН, Ярославль

Аннотация: Приведены результаты исследования влияния энергии ионов ($E_i$ = 45–220 eV) на скорость распыления и морфологию поверхности поликристаллической пленки платины при ее обработке в плотной аргоновой плазме ВЧ индукционного разряда низкого давления ($P$ = 0.08 Pa). Определены коэффициенты распыления Pt в зависимости от энергии ионов. Анализ данных сканирующей туннельной микроскопии показал сильное различие профилей поверхностей образцов, полученных при обработке их ионами с минимальной и максимальной энергией. Обсуждается механизм изменения морфологии поверхности Pt при ионно-плазменном распылении.

Поступила в редакцию: 31.07.2012


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2013, 39:1, 130–133

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026