RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2025, том 51, выпуск 20, страницы 50–54 (Mi pjtf8369)

Влияние промежуточного слоя на процесс формирования и свойства наноструктурированных пленок ITO

Л. К. Марков, И. П. Смирнова, А. С. Павлюченко, М. А. Яговкина, А. В. Нащекин

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Исследован рост наноструктурированных пленок, полученных методом магнетронного распыления на стеклянные подложки с предварительно нанесенными плотными слоями оксида индия-олова (ITO) и без них. Показано, что промежуточный слой ITO облегчает зарождение нитевидных нанокристаллов при пониженных температурах на начальных стадиях роста пленок. Оптические измерения продемонстрировали просветляющую способность слоя нанокристаллов. С учетом пониженного поверхностного сопротивления получаемых пленок предложенный метод перспективен для широкого круга приложений, в том числе для изготовления прозрачных электродов оптоэлектронных приборов.

Ключевые слова: прозрачные проводящие оксиды, оксид индия-олова, ITO, наноструктурированные покрытия.

Поступила в редакцию: 19.05.2025
Исправленный вариант: 08.07.2025
Принята в печать: 17.07.2025

DOI: 10.61011/PJTF.2025.20.61403.20376



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026