Аннотация:
Исследована возможность регулирования важных структурно-фазовых характеристик пленок WSe$_x$, относящихся к классу слоистых материалов и перспективных к применению в современных устройствах нано- и оптоэлектроники. Применение термообработки и ионного облучения в процессе импульсного лазерного осаждения в тени противокапельного экрана позволило варьировать соотношение Se/W от 5 до 1.5, изменять характер атомной упаковки, а также получать пленки как с достаточно гладкой поверхностью, так и с различным профилем поверхности. Увеличение высоты неровностей параболической формы до 200–500 nm позволило понизить коэффициент отражения света в широком диапазоне длин волн от 30% (характерная величина для пленок с гладкой поверхностью) до 6%, что может способствовать существенному повышению эффективности солнечных элементов на полупроводниковых пленках такого типа.