RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2014, том 40, выпуск 18, страницы 38–46 (Mi pjtf8258)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Модифицирование химического состава, морфологии и антиотражающих свойств пленок WSe$_x$, формируемых импульсным лазерным осаждением

С. Н. Григорьевabc, В. Н. Неволинabc, В. Ю. Фоминскийabc, Р. И. Романовabc, М. А. Волосоваabc

a Московский станкоинструментальный институт "Станкин"
b Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук, г. Москва
c Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ", г. Москва

Аннотация: Исследована возможность регулирования важных структурно-фазовых характеристик пленок WSe$_x$, относящихся к классу слоистых материалов и перспективных к применению в современных устройствах нано- и оптоэлектроники. Применение термообработки и ионного облучения в процессе импульсного лазерного осаждения в тени противокапельного экрана позволило варьировать соотношение Se/W от 5 до 1.5, изменять характер атомной упаковки, а также получать пленки как с достаточно гладкой поверхностью, так и с различным профилем поверхности. Увеличение высоты неровностей параболической формы до 200–500 nm позволило понизить коэффициент отражения света в широком диапазоне длин волн от 30% (характерная величина для пленок с гладкой поверхностью) до 6%, что может способствовать существенному повышению эффективности солнечных элементов на полупроводниковых пленках такого типа.

Поступила в редакцию: 28.04.2014


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2014, 40:9, 793–796

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026