Эта публикация цитируется в 6 статьях

Эпитаксия пленок Pb(Zr,Ti)O$_3$ на Ir/YSZ/Si при катодном распылении: влияние состава реакционного газа

В. Г. Бешенков, А. А. Бурлаков, А. Г. Знаменский, В. А. Марченко

Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН, Черноголовка

Аннотация: Изучены особенности роста пленок PZT на гетероэпитаксиальных структурах Ir/YSZ/Si при катодном ВЧ-распылении керамической мишени в смесях аргона и кислорода. Показано, что распыление в газовой смеси с высоким парциальным давлением кислорода приводит к кристаллизации пленок PZT в метастабильной структуре пирохлора, тогда как распыление в аргоне или использование аргона на начальной стадии распыления приводит к пленкам PZT с равновесной структурой перовскита.

Поступила в редакцию: 13.03.2014

 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2014, 40:8, 644–647

Реферативные базы данных:

•