Аннотация:
Изучена эволюция морфологии поверхности при росте пленок поликристаллического кремния с полусферическими зернами (пленки HSG-Si) на основе использования скейлингового анализа изображений поверхности, полученных посредством атомно-силовой микроскопии. Из корреляционных функций высота-высота найдено, что показатель шероховатости $\alpha$ = 0.92 $\pm$ 0.03 и не зависит от толщины пленки. Получены зависимости ширины интерфейса $w(t)$, корреляционной длины $\xi(t)$ и длины волны $\lambda(t)$ от времени осаждения $t$ и найдены скейлинговые коэффициенты $\beta$, $1/z$, $p$.