RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2014, том 40, выпуск 1, страницы 43–49 (Mi pjtf8042)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Особенности роста пленок в тлеющем разряде с убегающими электронами

С. П. Зинченкоab, А. П. Ковтунab, Г. Н. Толмачевab

a Южный научный центр РАН, г. Ростов-на-Дону
b Южный федеральный университет, г. Ростов-на-Дону

Аннотация: При напылении пленок в газовом разряде с пучком убегающих электронов впервые обнаружено аномальное поведение интенсивности отраженного от пленки на подложке зондирующего оптического излучения после выключения разряда. Интерпретация этого явления дается в рамках двухслойной модели роста пленки на подложке: в ходе напыления на поверхности пленки образуется оптически однородный поверхностный слой неизвестной природы, который полностью распадается после выключения разряда.

Поступила в редакцию: 16.07.2013


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2014, 40:1, 21–24

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026