RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 1985, том 11, выпуск 5, страницы 286–290 (Mi pjtf800)

Ускоряющее действие напряжений на кинетику кристаллизации ионно-имплантированных слоев кремния при импульсном нагреве

Л. Н. Александров

Институт физики полупроводников СО АН СССР, Новосибирск

Поступила в редакцию: 30.11.1984



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026