RUS
ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ
// Письма в Журнал технической физики
// Архив
Письма в ЖТФ,
1985
, том 11,
выпуск 5,
страницы
286–290
(Mi pjtf800)
Ускоряющее действие напряжений на кинетику кристаллизации ионно-имплантированных слоев кремния при импульсном нагреве
Л. Н. Александров
Институт физики полупроводников СО АН СССР, Новосибирск
Поступила в редакцию:
30.11.1984
Полный текст:
PDF файл (484 kB)
Реферативные базы данных:
©
МИАН
, 2026