RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2025, том 51, выпуск 16, страницы 3–5 (Mi pjtf7991)

Первое получение эпитаксиальных бездвойниковых пленок никеля на подложках из фторида бария

В. А. Лузанов

Фрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова РАН, Фрязино, Московская обл., Россия

Аннотация: Впервые продемонстрировано получение эпитаксиальных бездвойниковых пленок никеля на подложках фторида бария (BaF$_2$) с использованием метода магнетронного напыления. Установлено, что оптимизация условий осаждения, включая температуру подложки, давление рабочего газа и мощность распыления, позволяет достичь высокого структурного совершенства пленок. Полученные результаты открывают перспективы для применения таких структур в магнитных и электронных устройствах.

Ключевые слова: эпитаксиальные пленки, энергия двойникования, рентгеноструктурный анализ.

Поступила в редакцию: 02.04.2025
Исправленный вариант: 16.05.2025
Принята в печать: 18.05.2025

DOI: 10.61011/PJTF.2025.16.60924.20333



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026