Аннотация:
Впервые продемонстрировано получение эпитаксиальных бездвойниковых пленок никеля на подложках фторида бария (BaF$_2$) с использованием метода магнетронного напыления. Установлено, что оптимизация условий осаждения, включая температуру подложки, давление рабочего газа и мощность распыления, позволяет достичь высокого структурного совершенства пленок. Полученные результаты открывают перспективы для применения таких структур в магнитных и электронных устройствах.
Ключевые слова:
эпитаксиальные пленки, энергия двойникования, рентгеноструктурный анализ.
Поступила в редакцию: 02.04.2025 Исправленный вариант: 16.05.2025 Принята в печать: 18.05.2025