Аннотация:
Проанализирована зависимость коэффициента отражения при встречном четырехволновом взаимодействии в кристалле InP от ориентации плоскости его среза в кристаллографической системе координат. Найдены индексы среза кристалла, при выборе которого интенсивность обращенной световой волны в оптимальных условиях достигает абсолютного максимума. Выполнено сравнение эффективности дифракции при обращении волнового фронта на комбинированных решетках в кристалле InP различных срезов.
Ключевые слова:
четырехволновое взаимодействие, обращение волнового фронта, фоторефрактивный кристалл, комбинированная решетка, коэффициент отражения.
Поступила в редакцию: 17.02.2025 Исправленный вариант: 17.02.2025 Принята в печать: 05.03.2025