RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2015, том 41, выпуск 20, страницы 82–88 (Mi pjtf7869)

Эта публикация цитируется в 8 статьях

Особенности электронного строения и фазового состава аморфных пленок композитов (SiO$_2$)$_x$($a$-Si:H)$_{x-1}$ по данным рентгеноспектральных исследований

В. А. Тереховa, Е. В. Париноваa, Э. П. Домашевскаяa, А. С. Садчиковa, Е. И. Теруковb, Ю. К. Ундаловb, Б. В. Сеньковскийc, С. Ю. Турищевa

a Воронежский государственный университет
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
c Санкт-Петербургский государственный университет

Аннотация: Аморфные пленки композитов (SiO$_2$)$_x$($a$-Si:H)$_{x-1}$ были получены с применением плазмы на постоянном токе путем изменения времени включения и выключения ее разряда. Электронное строение и фазовый состав приповерхностных слоев пленок были изучены с применением метода ультрамягкой рентгеновской спектроскопии и спектроскопии ближней тонкой структуры края рентгеновского поглощения с использованием синхротронного излучения. Качественный и полуколичественный анализ фазового состава, проведенный при помощи специальной методики компьютерного моделирования, показал, что содержание кластеров $a$-Si:H в пленке SiO$_2$ с помощью изменения времени включения плазмы на постоянном токе можно регулировать в широких пределах. Замечено, что появление большого количества нанокластеров кремния в пленке (SiO$_2$)$_x$($a$-Si:H)$_{x-1}$ приводит к аномальному поведению спектров поглощения в результате взаимодействия синхротронного излучения с нанокластерами, размеры которых сопоставимы с длиной волны в области этого края.

Поступила в редакцию: 02.06.2015


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2015, 41:10, 1010–1012

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026