RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2015, том 41, выпуск 17, страницы 76–82 (Mi pjtf7825)

Формирование наноструктур на поверхности поликристаллического V$_2$O$_5$ при воздействии мощного ионного пучка

В. С. Ковивчак, Т. В. Панова

Омский государственный университет им. Ф. М. Достоевского

Аннотация: Исследованы поверхностная морфология и структурно-фазовые изменения в поликристаллическом V$_2$O$_5$ при воздействии мощного ионного пучка наносекундной длительности с плотностью тока 20–100 A/cm$^2$. Установлено, что однократное воздействие пучка с плотностью тока 50 A/cm$^2$ на V$_2$O$_5$ приводит к образованию на его поверхности сплошного массива нанопластин с характерным поперечным размером $\sim$ 1 $\mu$m и толщиной до $\sim$ 40 nm. При плотности тока пучка 100 A/cm$^2$ массивы нанопластин формируются вокруг трещин в поверхностном слое V$_2$O$_5$. Обсуждены возможные механизмы формирования нанопластин.

Поступила в редакцию: 30.03.2015


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2015, 41:9, 851–853

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026