Эта публикация цитируется в 1 статье

Морфология, структурные и электрофизические свойства монокристаллов бестигельного Si(111)

К. Б. Фрицлер, Е. М. Труханов, В. В. Калинин

Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск

Аннотация: Представлены результаты исследования структурного состояния поверхности и распределения электрофизических параметров по длине монокристаллов кремния, выращенных в направлении [111] методом бестигельной зонной плавки. Определены геометрические параметры морфологических признаков гранной формы тетрагонтриоктаэдра. Показано, что наросты, как и реберные выступы, являются морфологическим элементом поверхности слитка, характеризующим формы роста ромбического додекаэдра и тетрагонтриоктаэдра. Установлено, что в области наростов увеличивается неоднородность распределения времени жизни неравновесных носителей заряда, что обусловлено нестабильностью скорости кристаллизации.

Поступила в редакцию: 19.02.2015

 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2015, 41:8, 731–733

Реферативные базы данных:

•