RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2015, том 41, выпуск 14, страницы 79–87 (Mi pjtf7782)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Лазерная абляция монокристаллического кремния под действием импульсно-частотного излучения волоконного лазера

В. П. Вейко, А. М. Скворцов, Хуинь Конг Ту, А. А. Петров

Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики

Аннотация: Исследованы процессы разрушения поверхности монокристаллических пластин кремния при облучении сканирующим пучком импульсного иттербиевого волоконного лазера с длиной волны $\lambda$ = 1062 nm. Показано, что процесс абляции может происходить без плавления кремния с образованием факела плазмы. При определенных параметрах воздействия: мощности излучения, скорости сканирования, степени перекрытия – впервые наблюдалось выраженное окисление образующихся микрочастиц кремния с формированием из них характерного рыхлого слоя из мельчайшего порошка диоксида кремния. Установлен диапазон режимов излучения и сканирования пучка лазера, при которых наблюдается рост слоя SiO$_2$.

Поступила в редакцию: 14.04.2014


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2015, 41:7, 701–704

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026