RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2015, том 41, выпуск 6, страницы 15–23 (Mi pjtf7746)

Радиационно-стимулированная поверхностная диффузия адатомов на грани $\{321\}$ вольфрама

Е. В. Саданов

Национальный научный центр "Харьковский физико-технический институт"

Аннотация: Методами полевой ионной микроскопии исследована эрозия поверхности вольфрама под действием бомбардировки ускоренными атомами гелия с энергией 5 keV. Обнаружено радиационно-стимулированное образование адатомов на грани $\{321\}$, локализованных в центральной области террас. Показано, что распределения адатомов на террасах $\{321\}$ характеризуются наличием зон с нулевой концентрацией адатомов вблизи атомных ступенек. Существование пустых зон при радиационном воздействии указывает на протекание переходной поверхностной диффузии. Диффузионные пути адатомов могут достигать 6 межатомных расстояний на грани $\{321\}$ вольфрама W, обнаруживая при этом анизотропию переходной радиационно-стимулированной поверхностной диффузии адатомов.

Поступила в редакцию: 04.08.2014


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2015, 41:6, 571–574

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026