RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2025, том 51, выпуск 5, страницы 11–14 (Mi pjtf7503)

Генерация сильноионизованной металлической плазмы анодным испарением в импульсном разряде

Н. В. Гавриловab, Д. Р. Емлинa, А. С. Каменецкихa

a Институт электрофизики УрО РАН, Екатеринбург, Россия
b Уральский федеральный университет, Екатеринбург, Россия

Аннотация: Исследовано влияние параметров импульсно-периодического (1 ms, 60–450 Hz) разряда с самонакаливаемым полым катодом и испаряемым анодом на плотность и степень ионизации потока паров алюминия. Показано, что увеличение амплитуды тока при постоянном среднем токе разряда 12–16 А приводит к трех-четырехкратному увеличению скорости осаждения пленки, росту доли ионов Al$^+$ в потоке пара до 100% при 80 А и доли ионов Al$^+$ в общем ионном токе до 30% при 110 А. Усовершенствован метод определения доли ионов металла в потоке пара сеточным зондом с тормозящим электрическим полем.

Ключевые слова: самонакаливаемый катод, импульсный разряд, анодное испарение, степень ионизации пара.

Поступила в редакцию: 15.08.2024
Исправленный вариант: 02.10.2024
Принята в печать: 31.10.2024

DOI: 10.61011/PJTF.2025.05.59896.20087



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026