Эта публикация цитируется в 1 статье

Оптимизация толщины переходного слоя для генерации сверхкоротких сгустков электронов лазерным импульсом, воздействующим на полуограниченную плазму

С. В. Кузнецов

Объединенный институт высоких температур РАН, Москва, Россия

Аннотация: Получена аналитическая оценка диапазона значений толщины приграничного слоя плазмы, обеспечивающего генерацию сверхкоротких электронных сгустков при воздействии лазерного импульса на полуограниченную разреженную плазму.

Ключевые слова: лазерный импульс, сгусток электронов, генерация, инжекция.

Поступила в редакцию: 24.06.2022
Исправленный вариант: 24.06.2022
Принята в печать: 29.06.2022

DOI: 10.21883/PJTF.2022.16.53202.19290

Реферативные базы данных:

•