Упругое рассеяние атома рутения на атомах Si и O в диапазоне относительных кинетических энергий 2–200 eV

А. П. Палов

Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова, Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д. В. Скобельцына, Москва, Россия

Аннотация: Технологии производства межслойных соединений нового поколения предполагают использование рутения. Высокая стоимость экспериментального изучения распыления и травления тренчей в Ru приводит к необходимости его оптимизации путем моделирования, требующего знания сечений элементарных процессов взаимодействия плазменных частиц с Ru. Бинарные межатомные потенциалы Ru–Ru и Ru–Si, апробированные методом молекулярной динамики, и Ru–O, рассчитанный с помощью метода многоконфигурационного взаимодействия MRCI/AV5Z использованы нами для расчета сечений упругого рассеяния атомов в диапазоне энергий, типичных для плазменного травления.

Ключевые слова: рутений, упругое сечение рассеяния, распыление, бинарный потенциал.

Поступила в редакцию: 13.02.2023
Исправленный вариант: 04.03.2023
Принята в печать: 06.03.2023

DOI: 10.21883/PJTF.2023.09.55321.19530

Реферативные базы данных:

•