RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2024, том 50, выпуск 22, страницы 21–24 (Mi pjtf6822)

Особенности угловой зависимости коэффициента распыления германия фокусированным ионным пучком галлия

М. А. Смирноваab, К. Н. Лобзовab, В. И. Бачуринb, Л. А. Мазалецкийab, Д. Э. Пуховb, А. Б. Чуриловb

a Ярославский государственный университет им. П. Г. Демидова, Ярославль, Россия
b Ярославский филиал Федерального государственного бюджетного учреждения науки Физико-технологического института РАН, Ярославль, Россия

Аннотация: Представлены угловые зависимости коэффициентов распыления Ge и Si фокусированным ионным пучком Ga$^+$ с энергией 30 keV. Сравнение экспериментальной угловой зависимости коэффициента распыления Ge с соответствующими данными моделирования в программе SDTrimSP выявило существенные различия. При углах падения ионов от 0 до 50$^\circ$ экспериментальные данные превышают расчетные, а при бóльших углах имеют более низкие значения, в то время как для Si эти зависимости хорошо согласуются. Особенности угловой зависимости коэффициента распыления Ge объясняются развитием и изменением топографии поверхности при наклонном падении ионов.

Ключевые слова: германий, ионная бомбардировка, коэффициент распыления, топография поверхности.

Поступила в редакцию: 26.04.2024
Исправленный вариант: 28.06.2024
Принята в печать: 18.07.2024

DOI: 10.61011/PJTF.2024.22.59130.19975



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026