Аннотация:
Представлены угловые зависимости коэффициентов распыления Ge и Si фокусированным ионным пучком Ga$^+$ с энергией 30 keV. Сравнение экспериментальной угловой зависимости коэффициента распыления Ge с соответствующими данными моделирования в программе SDTrimSP выявило существенные различия. При углах падения ионов от 0 до 50$^\circ$ экспериментальные данные превышают расчетные, а при бóльших углах имеют более низкие значения, в то время как для Si эти зависимости хорошо согласуются. Особенности угловой зависимости коэффициента распыления Ge объясняются развитием и изменением топографии поверхности при наклонном падении ионов.