Аннотация:
Исследованы фотоэлектрические преобразователи на основе гетероструктур $n$-GaInP/$n$–$p$-Ge, выращенных методом МОС-гидридной эпитаксии при различных условиях формирования $p$–$n$-перехода. Гетероструктуры предназначены для использования в качестве узкозонных субэлементов трехпереходных солнечных фотопреобразователей GaInP/GaInAs/Ge. Показано, что в германиевых $p$–$n$-переходах наряду с диффузионным существует туннельный механизм протекания тока, поэтому использована двухдиодная электрическая эквивалентная схема германиевого $p$–$n$-перехода. Определены значения диодных параметров для обоих механизмов из анализа как темновых, так и световых зависимостей ток–напряжение. Показано, что устранение компоненты туннельного тока позволяет повысить кпд Ge-субэлемента на $\sim$1% при преобразовании неконцентрированного излучения. За счет использования концентрированного излучения влияние туннельного тока на кпд приборов на основе германия можно практически свести к нулю при значениях плотности фотогенерированного тока $\sim$1.5 А/см$^2$.
Поступила в редакцию: 07.06.2010 Принята в печать: 22.06.2010