Эта публикация цитируется в 6 статьях

Аморфные, стеклообразные, пористые, органические, микрокристаллические полупроводники, полупроводниковые композиты

Влияние кислородной плазмы на свойства пленок оксида тантала

В. М. Калыгина, А. Н. Зарубин, В. А. Новиков, Ю. С. Петрова, М. С. Скакунов, О. П. Толбанов, А. В. Тяжев, Т. М. Яскевич

Сибирский физико-технический институт им. акад. В. Д. Кузнецова при Томском государственном университете

Аннотация: Исследовано влияние кислородной плазмы на токи утечки, величину диэлектрической проницаемости и тангенса угла диэлектрических потерь тонких слоев (300–400 нм) Ta$_2$O$_5$. Предложено использовать обработку пленок оксида тантала в кислородной плазме для управления их электрическими и диэлектрическими характеристиками.

Поступила в редакцию: 30.12.2009
Принята в печать: 18.01.2010

 Англоязычная версия: Semiconductors, 2010, 44:9, 1227–1234

Реферативные базы данных:

•