Аннотация:
Проведено исследование влияния количества вводимой примеси висмута на процессы переноса и накопления заряда в аморфных слоях As$_2$Se$_3$. Обнаружена связь между релаксационными процессами переноса и изменением внутренней структуры исследуемых материалов. В изученных слоях определены физические параметры, характеризующие протекающие электронные процессы: контактная емкость, плотность локализованных состояний, ответственных за аккумуляцию зарядов в контактной области, постоянная зарядки контактной области, подвижность носителей зарядов. Обсуждаются механизмы наблюдаемых эффектов.
Поступила в редакцию: 30.11.2009 Принята в печать: 22.01.2010