RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2010, том 44, выпуск 8, страницы 1031–1037 (Mi phts8884)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Электронные и оптические свойства полупроводников

Статистический метод релаксационной спектроскопии глубоких уровней в полупроводниках

Е. А. Татохинa, А. В. Каданцевa, А. Е. Бормонтовb, В. Г. Задорожнийb

a Воронежская государственная технологическая академия
b Воронежский государственный университет

Аннотация: Метод релаксационной спектроскопии является одним из основных методов, широко используемых для определения параметров дефектов, приводящих к возникновению глубоких уровней в запрещенной зоне полупроводникового материала. С целью повышения точности определения концентрации и параметров глубоких уровней, определяющих характер изотермической релаксации емкости, предложен статистический метод обработки результатов измерений изотермической релаксации емкости, основанный на алгоритме статистического поиска решения.

Поступила в редакцию: 09.12.2009
Принята в печать: 18.01.2010


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2010, 44:8, 997–1003

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026