RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2010, том 44, выпуск 5, страницы 684–687 (Mi phts8826)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Физика полупроводниковых приборов

Увеличение квантовой эффективности флип-чип AlGaInN-светодиодов путем реактивного ионного травления внешней стороны подложек SiC

И. П. Смирноваa, Л. К. Марковa, Е. М. Аракчееваa, А. С. Павлюченкоab, Д. А. Закгеймa, М. М. Кулагинаa

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b ЗАО "Эпицентр", 194156 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Работа посвящена развитию метода создания рассеивающего свет микрорельефа на внешней стороне подложек SiC для уменьшения потерь при выводе света из светодиодного кристалла, связанных с эффектом полного внутреннего отражения в структурах AlGaIn/GaN. Предложено использовать тонкие слои фоторезиста в качестве случайных масок для процесса реактивного ионного травления подложки из карбида кремния. Оптимизацией режимов травления на поверхности подложки SiC получен микрорельеф с требуемыми параметрами, что привело к увеличению внешней квантовой эффективности светоизлучающих кристаллов более чем на 25%.

Поступила в редакцию: 23.09.2009
Принята в печать: 29.09.2009


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2010, 44:5, 657–660

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026