RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2010, том 44, выпуск 3, страницы 372–376 (Mi phts8775)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Аморфные, стеклообразные, пористые, органические, микрокристаллические полупроводники, полупроводниковые композиты

Гетеропереходы полисалицилиденазометины/Si (GaAs): создание и свойства

Ю. А. Николаевa, В. Ю. Рудьb, Ю. В. Рудьa, Е. И. Теруковa, Н. М. Геллерc, А. Г. Ивановc, В. В. Шаманинc

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
c Институт высокомолекулярных соединений РАН, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Предложена и реализована атермическая безвакуумная технология и впервые созданы гетеропереходы неклассически полисопряженные полисалицилиденазометины/Si (GaAs). Установлено, что максимальная фоточувствительность полученных гетеропереходов достигается при их освещении со стороны тонких пленок полимеров в спектральном диапазоне 1–3.5 эВ. Сделан вывод о возможности применения новых гетеропереходов в качестве широкополосных фотопреобразователей оптического излучения.

Поступила в редакцию: 09.07.2009
Принята в печать: 18.08.2009


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2010, 44:3, 354–358

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026